Development of plasma-chemistry schemes: the call for a new paradigm
ORAL · Invited
Abstract
[1] L. L. Alves et al, Plasma Sources Sci. Technol. 32 (2023) 023001
[2] T. Silva et al, J. CO2 Util. 53 (2021) 101719
[3] C. Fromentin et al, Plasma Sources Sci. Technol. 32 (2023) 024001
[4] C. Fromentin et al, Plasma Sources Sci. Technol. (in press: https://doi.org/10.1088/1361-6595/acce64)
[5] T. C. Dias et al, https://doi.org/10.48550/arXiv.2305.03674
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Presenters
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Vasco Guerra
Instituto de Plasmas e Fusão Nuclear, Instituto Superior Técnico, Universidade de Lisboa, Portugal, Instituto de Plasmas e Fusão Nuclear, Instituto Superior Técnico, Universidade de Lisboa, Instituto Superior Tecnico
Authors
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Vasco Guerra
Instituto de Plasmas e Fusão Nuclear, Instituto Superior Técnico, Universidade de Lisboa, Portugal, Instituto de Plasmas e Fusão Nuclear, Instituto Superior Técnico, Universidade de Lisboa, Instituto Superior Tecnico
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Tiago C Dias
Instituto de Plasmas e Fusão Nuclear, Universidade de Lisboa, Instituto de Plasmas e Fusão Nuclear, Instituto Superior Técnico, Universidade de Lisboa, Instituto Superior Técnico
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Chloé Fromentin
Instituto de Plasmas e Fusão Nuclear, Instituto Superior Técnico, Universidade de Lisboa
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Tiago Silva
Instituto de Plasmas e Fusão Nuclear, Instituto Superior Técnico, Universidade de Lisboa
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Luis L Alves
Instituto de Plasmas e Fusão Nuclear, Instituo Superior Técnico, Universidade de Lisboa
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Edmond Baratte
LPP, CNRS, École Polytechnique, Sorbonne Université, Université Paris-Saclay, IP-Paris, Palaiseau, France
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Olivier Guaitella
LPP, CNRS, École Polytechnique, Sorbonne Université, Université Paris-Saclay, IP-Paris, Palaiseau, France